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半導體電子設備

濕法腐蝕清洗系統

發布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次

濕法腐蝕清洗系統(圖1)

 

 

主要特點:

成熟的模塊化工藝組合

可面向用戶工藝需要,定制化設計

已應用于20nm級別IC工藝線

針對LED生產線,提高整體解決方案

全自動清洗/手動清洗可選

整機防漏液設計

廣泛應用于Ic、MEMS、LED、PV、電力電子、半導體材料等行業

標準配置:

高純進口板材

高結晶工藝管道

高潔凈氣動閥門

防腐機械手

伺服電機驅動

人機對話界面,觸摸屏操作

標準工藝模塊

SC-I溶液腐蝕槽

SC-II溶液腐蝕槽

SC-III溶液腐蝕槽

QDR槽

循環清洗槽

超聲/兆聲清洗槽

可選模塊:

鼓氮

水溶超聲/水浴兆聲槽

槽內加熱/制冷循環

漏液檢測

水阻檢測

自動供液系統

自動配液系統

自動滅火系統(有機清洗)

ESD功能(有機清洗)

MES接口(可選)

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