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半導體電子設備

硅片擴散超聲波清洗機

發布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次

硅片擴散超聲波清洗機(圖1)

 

概述:

該設備用于晶圓片擴散、蒸發、CAV生產前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(HF)、純水清洗。其工藝性能指標及可靠性完全達到進口同類設備水平,但價格、售后服務、備品備件的供給等是進口設備無法比擬的。

主要特點:

采用進口PP板制作。

適用2-6寸硅片清洗。

超聲功率強勁,性能穩定。

 


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